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国内主要废气处理工艺原理介绍,工厂车间废气净化活性炭吸附法
浏览量： 发表时间：18-06-23 10:32:51
国内主要废气处理工艺原理介绍
1、催化燃烧法
催化燃烧法，也称触媒燃烧法和触媒氧化法，是用白金、钴、铜、镍等作为催化剂，将有机加热到200～300℃，通过催化剂层，在较低的温度下，达到完全燃烧。此法适于高浓度、小风量废气的净化。缺点是表面异物附着易使催化剂中毒失效，且催化剂和设备价格较贵。
2、光催化氧化
光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用，光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将乙醇降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。
传统上采用粒径在5mm左右的活性炭在吸收塔内做成厚度0.8～1.5m吸附炭层。
乙醇废气由吸收塔下部进入吸收塔，吸收废气中的乙醇成分，净化后的干净气体被排放到大气中。处理废气流速0.3～0.6m/s，但仅限于低浓度废气。当处理废气通过吸附层时，大部分的吸附质在吸附层内被吸附，随着吸附时间延续，活性炭层的吸附能力降低，其有效部分越来越薄，当出口处气体中含有被吸附质时，这时整个活性炭层被穿透。若继续使用，处理后气体中所含吸附质越来越多，当出口侧浓度达到入口浓度时，则活性炭达到饱和状态。此时需要脱附，使活性炭重新具有活性。
4、等离子分解法
低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的 放电电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。
1、催化燃烧法
催化燃烧法，也称触媒燃烧法和触媒氧化法，是用白金、钴、铜、镍等作为催化剂，将有机加热到200～300℃，通过催化剂层，在较低的温度下，达到完全燃烧。此法适于高浓度、小风量废气的净化。缺点是表面异物附着易使催化剂中毒失效，且催化剂和设备价格较贵。
2、光催化氧化
光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用，光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂，以光为能量，将乙醇降解为CO2和H2O及其它无毒无害成份。
二氧化钛是一种性能优越、稳定无毒的半导体光催化剂[1]，在半导体光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米TiO2催化剂上，纳米TiO2催化剂吸收光能产生电子跃进和空穴跃进，经过进一步的结合产生电子-空穴对，与废气表面吸附的水份（H2O）和氧气（O2）反应生成氧化性很活波的氢氧自由基（OH-）和超氧离子自由基（O2-、O-）。能够把乙醇在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它无毒无害物质，经过净化之后的废气分子被活化降解，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂，所以不会产生二次污染，运行成本方面只是用到电能，无需经常更换配件，对于企业的使用是相当的节能环保。
传统上采用粒径在5mm左右的活性炭在吸收塔内做成厚度0.8～1.5m吸附炭层。
乙醇废气由吸收塔下部进入吸收塔，吸收废气中的乙醇成分，净化后的干净气体被排放到大气中。处理废气流速0.3～0.6m/s，但仅限于低浓度废气。当处理废气通过吸附层时，大部分的吸附质在吸附层内被吸附，随着吸附时间延续，活性炭层的吸附能力降低，其有效部分越来越薄，当出口处气体中含有被吸附质时，这时整个活性炭层被穿透。若继续使用，处理后气体中所含吸附质越来越多，当出口侧浓度达到入口浓度时，则活性炭达到饱和状态。此时需要脱附，使活性炭重新具有活性。
4、等离子分解法
低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态，当外加电压达到气体的 放电电压时，气体被击穿，产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用，使污染物分子在极短的时间内发生分解，并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。
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